特許

J-GLOBAL ID：200903040115712257

後噴射低減装置を備えた燃料インジェクタ

発明者： デイヴィッド ウィーツォレック ,  ジェイムズ ポール フォクトマン
出願人/特許権者： シーメンス オートモーティヴ コーポレイション
代理人 (1件)： 本田 崇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-006580
公開番号（公開出願番号）：特開2001-193597
出願日： 2001年01月15日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：

【要約】【課題】 後流れ若しくは後噴射を生じないバルブアセンブリを提供する。【解決手段】 ハウジングと、可動子とが設けられており、この可動子が、第1の部分90及び第2の部分92を含む可動子通路54を有しており、第1の部分が第1の断面積を有しており、前記第2の部分が第2の断面積を有しており、前記第1の断面積が前記第2の断面積よりも大きく、さらに、可動子バイアスばね32と、ニードル68と、弁座と、流れ制限器94とが設けられており、この流れ制限器が、可動子の可動子通路の第1の部分90と第2の部分92との間に配置されており、流れ制限器94が、第3の断面積を有するオリフィス96を有しており、前記第3の断面積が、可動子の断面積よりも小さい。

請求項（抜粋）：

バルブアセンブリにおいて、ハウジングが設けられており、該ハウジングが、入口、出口、及び入口から出口にまで長手方向軸線に沿って延びた通路を有しており、可動子が設けられており、該可動子が、前記通路内に配置されており、前記可動子が、第1の部分及び第2の部分を含む可動子通路を有しており、前記第1の部分が第1の断面積を有しており、前記第2の部分が第2の断面積を有しており、前記第1の断面積が前記第2の断面積よりも大きく、可動子バイアスばねが設けられており、該可動子バイアスばねが、前記可動子通路の第1の部分内に配置されており、ニードルが設けられており、該ニードルが、前記可動子通路の第2の部分内に配置されており、弁座が設けられており、該弁座が、前記出口の近くに配置されており、流れ制限器が設けられており、該流れ制限器が、可動子の可動子通路の第1の部分と第2の部分との間に配置されており、前記流れ制限器が、第3の断面積を有するオリフィスを有しており、前記第3の断面積が、可動子の断面積よりも小さいことを特徴とする、バルブアセンブリ。

IPC (3件)：

F02M 51/08 ,  F02M 47/00 ,  F02M 61/10

FI (4件)：

F02M 51/08 M ,  F02M 47/00 P ,  F02M 61/10 N ,  F02M 61/10 P