特許

J-GLOBAL ID：200903040116643020

CaF2基板用反射防止膜

発明者： 岩渕 俊 ,  宮田 威男 ,  橋立 雄二
出願人/特許権者： 松下技研株式会社
代理人 (1件)： 役 昌明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-020665
公開番号（公開出願番号）：特開平5-188203
出願日： 1992年01月10日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 大出力・高繰り返しエキシマレーザ用光学部品に使用でき、かつ光学部品が高温環境の下でも使用できる十分な耐熱性を有し、製作時の膜厚制御性が緩やかで層数の少ないCaF2基板用反射防止膜を提供する。【構成】 光学研磨したCaF2基板上に、第1層目にMgO膜を、第2層目にSiO2膜を順次形成し、その時の光学的膜厚をそれぞれ0.33λ〜0.38λ,0.19λ〜0.21λの範囲(ただし、λは中心波長)に選定した二層構造に形成する。また、第1層目に低屈折率物質としてSiO2膜、第2層目に高屈折率物質としてMgO膜、第3層目に低屈折率物質としてSiO2膜を順次形成し、それぞれの光学的膜厚を、0.23λ〜0.27λ,0.35λ〜0.40λおよび0.18λ〜0.20λの範囲に選定した三層構造に形成する。

請求項（抜粋）：

光学研磨された弗化カルシュウム(CaF2)基板上の片面もしくは両面に、基板に接する第1の層に高屈折率物質として酸化マグネシュウム(MgO)膜、第2の層に低屈折率物質として二酸化珪素(SiO2)膜を順次形成したことを特徴とする二層構造のCaF2基板用反射防止膜。

IPC (5件)：

G02B 1/10 ,  C23C 14/02 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/35 ,  C23C 28/04

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭62-073202
  
• 特開平2-312527
  
• 特開平2-158734
  
• 特開平2-231005
  
• 特開昭62-244001