特許

J-GLOBAL ID：200903040118459650

レーザアニール装置

発明者： 出野 愼一 ,  桑原 創
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 中沢 謹之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-287436
公開番号（公開出願番号）：特開平5-048190
出願日： 1991年08月12日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】【目的】 アニール処理対象の試料に照射されるレーザ光のエネルギを、簡単に設定および変更できるようにすることを目的とする。【構成】 発振出力されるレーザ光のエネルギを一定とするとともに、出力されてくるレーザ光の出力光路上に、透過率の異なる複数の物体を選択的に配置自在とする。物体を透過したレーザ光を試料に照射する。レーザ光のエネルギを変更する場合は、透過率の異なる物体を出力光路に位置させる。

請求項（抜粋）：

発振出力されるレーザ光のエネルギを一定とするとともに、出力されてくるレーザ光の出力光路上に、透過率の異なる複数の物体を選択的に配置自在とし、前記物体を透過したレーザ光をアニール対象の試料に照射するようにしたことを特徴とするレーザアニール装置。

IPC (4件)：

H01S 3/104 ,  G02B 26/02 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/268

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭58-023589
  
• 特開昭63-080987