特許

J-GLOBAL ID：200903040126140832

投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 関根 義之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-131195
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307443
出願日： 1998年04月24日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】 投影光学系中の瞳近傍に回折光学素子を配置することによって諸収差を良好に補正しつつ不要回折光によるフレアーの悪影響を少なくした投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、照明されたレチクルのパターンの像を基板上に投影する回折光学素子を含む投影光学系と、を有する投影露光装置において、該回折光学素子は、その輪帯間隔が所定量T以上である領域の面積Stと、該回折光学素子の有効径の面積Sとの比St/Sを所定量CX以下にしたこと。

請求項（抜粋）：

光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、照明されたレチクルのパターンの像を基板上に投影する回折光学素子を含む投影光学系と、を有する投影露光装置において、該回折光学素子は、その輪帯間隔が所定量T以上である領域の面積Stと、該回折光学素子の有効径の面積Sとの比St/Sを所定量CX以下にしたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 13/18 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/22

FI (6件)：

H01L 21/30 515 D ,  G02B 13/18 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 518