特許

J-GLOBAL ID：200903040130232873

基板処理装置

発明者： 徳利 憲太郎
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-328876
公開番号（公開出願番号）：特開平9-171987
出願日： 1995年12月18日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】 ノズルに加工誤差が存在する場合であっても容易に対称な槽内流動を得ることが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】 両サイドのノズル20と水洗槽WB1の底面との間に反射板40を設けている。また、反射板40の溝付き部40bには、複数の基板1の間隔に対応する位置に複数の溝41を設けている。ノズル20から水洗槽WB1の底面に向けて噴出された純水は、反射板40に当たって分流し、その一部は溝付き部40bに沿って基板1に向かって流れる。両サイドからの水流は、水洗槽WB1の中央部で合流するとともに、基板1を洗流する。槽内流動が対称でない場合は、反射板40の位置および姿勢を調整して対称性を確保する。

請求項（抜粋）：

基板を所定の処理液に浸漬させて基板処理を行う基板処理装置において、(a) 前記処理液を貯留する処理槽と、(b) 前記処理槽内に設けられ、噴出口から所定の方向に前記処理液を噴出する噴出手段と、(c) 前記噴出口に対向して前記処理槽の内壁面とは別体に設けられ、前記噴出手段より噴出された前記処理液の流れを整流する整流手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306

FI (2件)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/306 J