特許

J-GLOBAL ID：200903040138489105

光回折構造、認証パターン及びこれらの形成方法

発明者： ハンス・イー・コース
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-283160
公開番号（公開出願番号）：特開平8-211215
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】【課題】 直接コピーまたは再形成することのできない、感知可能なパラメータを有する光回折構造、認証パターン、及び認証ラベルを提供すること。【解決の手段】 特に認証ラベル30に対応する認証パターン内の光回折構造10が、偽造の様々な貴重物に対する認証及び保護のために使用される。光回折構造10が固有に色付けされるパターンを生成する固有のパラメータを有する。この固有のパラメータは回折構造の形成の間に異方性プロセス工程によりランダムに定義され、製作者の完全な管理にはよらない。このことが正確な複製のコピーまたは作成を阻止する。認証パターン20は基盤層21及び透明なオーバコート層22による統合構造を含み、それらの間の観察可能な界面が光回折構造10を含む。固有に色付けされる認証パターンは、裸眼による単純な観察により確認することができる。このことは随所における確認のための必要条件である。

請求項（抜粋）：

光回折構造において固有に色付けされるパターンを生成する固有のパラメータを有し、前記固有のパラメータが前記光回折構造の形成の間の異方性プロセス工程によりランダムに定義される、光回折構造。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特表昭63-503331
  
• 特開昭60-083074