特許
J-GLOBAL ID：200903040140288923
ウエーハ表面検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-173899
公開番号（公開出願番号）：特開平5-018901
出願日： 1991年07月15日
公開日（公表日）： 1993年01月26日
要約：
【要約】【目的】 異物の大きさやその位置を検出するばかりでなく、その異物がエピタキシャル工程で発生したものかどうかも判定可能とする。【構成】 ウェーハ表面に第1のレーザ光を照射する第1のレーザー照射手段1と、第1のレーザ光をウェーハ表面に照射したことによるウェーハ表面からの散乱光に基づいてウェーハ表面上の異物の大きさ及び位置を検出する異物検出手段3,4と、検出された異物に対して第1のレーザ光とは異なる第2のレーザ光をパレスとして照射する第2のレーザ照射手段5と、第2のレーザ光を照射したことにより誘起される、異物からの散乱光に基づいて異物を同定する異物同定手段6,7とを備えていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ウェーハ表面に第1のレーザ光を照射する第1のレーザー照射手段と、前記第1のレーザ光をウェーハ表面に照射したことによるウェーハ表面からの散乱光に基づいてウェーハ表面上の異物の大きさ及び位置を検出する異物検出手段と、検出された異物に対して前記第1のレーザ光とは異なる第2のレーザ光をパルスとして照射する第2のレーザ照射手段と、前記第2のレーザ光を照射したことにより誘起される、前記異物からの散乱光に基づいて前記異物を同定する異物同定手段とを備えていることを特徴とするウェーハ表面検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, G01B 11/30
, H01L 21/66
