特許

J-GLOBAL ID：200903040152083847

レーザ治療装置

発明者： 丹羽 渉 ,  古野 貴浩
出願人/特許権者： 株式会社ニデック
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-375659
公開番号（公開出願番号）：特開2004-201995
出願日： 2002年12月25日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】所望する走査範囲に適切なレーザ照射を行えるレーザ治療装置を提供すること。【解決手段】治療用レーザ光源からのレーザ光を所期する位置に照射するレーザ治療装置において、レーザ光を所定のスポットサイズに形成するスポット形成手段と、レーザ光を走査する走査手段と、走査する隣合うレーザスポットの重なり比率及び走査範囲を設定する設定手段と、重なり比率の設定値が変更されたときに、重なり比率変更前に設定された走査範囲に対して重なり比率変更後の走査範囲が所定の条件を満たすように、レーザスポットの個数及びその配列を決定する決定手段と、該決定手段による決定情報に基づいて前記走査手段を制御する制御手段と、を備える。【選択図】 図8

請求項（抜粋）：

治療用レーザ光源からのレーザ光を所期する位置に照射するレーザ治療装置において、レーザ光を所定のスポットサイズに形成するスポット形成手段と、レーザ光を走査する走査手段と、走査する隣合うレーザスポットの重なり比率及び走査範囲を設定する設定手段と、重なり比率の設定値が変更されたときに、重なり比率変更前に設定された走査範囲に対して重なり比率変更後の走査範囲が所定の条件を満たすように、レーザスポットの個数及びその配列を決定する決定手段と、該決定手段による決定情報に基づいて前記走査手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とするレーザ治療装置。

IPC (3件)：

A61N5/06 ,  A61B18/20 ,  G02B26/10

FI (3件)：

A61N5/06 E ,  G02B26/10 Z ,  A61B17/36 350

Fターム (30件)：

2H045AB01 ,  2H045BA12 ,  2H045CB04 ,  2H045DA22 ,  2H045DA31 ,  4C026AA01 ,  4C026BB08 ,  4C026FF22 ,  4C026FF33 ,  4C026FF34 ,  4C026FF43 ,  4C026HH02 ,  4C026HH05 ,  4C026HH06 ,  4C026HH12 ,  4C026HH21 ,  4C082RA01 ,  4C082RA02 ,  4C082RC09 ,  4C082RE22 ,  4C082RE23 ,  4C082RE33 ,  4C082RE34 ,  4C082RE35 ,  4C082RE43 ,  4C082RL02 ,  4C082RL05 ,  4C082RL06 ,  4C082RL12 ,  4C082RL21

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光凝固装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-335297   出願人：株式会社ニデック
• レーザ治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-371489   出願人：株式会社ニデック