特許
J-GLOBAL ID：200903040155458124
リフロー装置およびその温度制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-101447
公開番号（公開出願番号）：特開平8-293666
出願日： 1995年04月25日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：
【要約】【目的】 炉内における基板の温度プロファイルを容易に制御できるリフロー装置を提供する。【構成】 炉内の加熱された循環雰囲気により炉内に搬入された基板Pを加熱するリフロー装置において、炉内の基板搬送コンベヤ31に沿って炉内循環雰囲気を加熱する多数の雰囲気加熱ヒータ21を配列する。前記雰囲気加熱ヒータ21により加熱された高温雰囲気を絞って基板Pに吹付ける多数の増速ノズル体22を基板搬送コンベヤ31に沿って配列する。この多数の増速ノズル体22内にあって基板Pに対し開口されるとともに循環雰囲気の影響を受けにくい位置に、個別に稼働可能の遠赤外線ヒータ23を設ける。そして、遠赤外線ヒータ23の稼働と稼働停止とを、スイッチ切換により簡単に選択し、基板のピーク温度220°Cを一定にして、200°C以上のリフロー時間を調整する。
請求項（抜粋）：
炉内の加熱された循環雰囲気により炉内に搬入されたワークを加熱するリフロー装置において、炉内のワーク搬送経路に沿って配列され炉内循環雰囲気を加熱する複数の雰囲気加熱ヒータと、ワーク搬送経路に沿って配列され前記雰囲気加熱ヒータにより加熱された高温雰囲気を絞ってワークに吹付ける複数の増速ノズル体と、この複数の増速ノズル体内にあってワークに対し開口されるとともに循環雰囲気の影響を受けにくい位置に設けられた個別に稼働可能の遠赤外線ヒータとを具備したことを特徴とするリフロー装置。
引用特許：
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