特許

J-GLOBAL ID：200903040165883583

EUV露光装置におけるレチクル位置検出方法

発明者： 田中 慶一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-015100
公開番号（公開出願番号）：特開2005-209896
出願日： 2004年01月23日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：

【課題】 EUV露光装置におけるレチクルのz軸方向位置と共に、x軸周りの回転角度、y軸周りの回転角度を検出することが可能なレチクル位置検出方法を提供する。【解決手段】 3つのレーザ光源4a、4b、4cから、それぞれ、y軸方向に(π/2-θ)の入射角でレーザ光線がレチクル1の表面に入射している。これらのレーザ光線は固定ブラインド2の開口部を通って入射し、レチクル1の表面で反射されて、それぞれ、位置検出器である2次元CCD5a、5b、5cに入射している。光切断による計測原理を使用して、各点P1〜P3における各点でのz方向位置ずれz1、z2、z3を求め、これから、幾何学的な関係により、z軸方向位置Rz、x軸周りの回転角度θx、y軸周りの回転角度θyを求める【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

EUV光を、円弧状の開口を有する固定ブラインドの開口を介してレチクル面に照射し、当該レチクルに形成されたパターンを投影光学系によりウエハに露光転写するEUV露光装置におけるレチクル位置検出方法であって、前記レチクルの走査方向をx方向、前記レチクルの基準面に垂直な方向をz方向とするx-y-z直交座標系において、前記固定ブラインドの開口を通して、3つ以上のレーザ光を、z軸に平行な平面内で前記レチクル面に斜め照射し、当該レーザ光が照射された前記レチクル面の位置を検出することにより、前記レチクルのz方向位置、x軸周りの回転角度、y軸周りの回転角度を算出することを特徴とするEUV露光装置におけるレチクル位置検出方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F9/00

FI (3件)：

H01L21/30 531A ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 517

Fターム (3件)：

5F046GA03 ,  5F046GA20 ,  5F046GB01