特許
J-GLOBAL ID：200903040173170154
光触媒被膜及び光触媒被膜の形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-310165
公開番号（公開出願番号）：特開平7-155598
出願日： 1993年12月10日
公開日（公表日）： 1995年06月20日
要約：
【要約】【目的】 TiO2からなる光触媒被膜の光活性を維持したまま剥離強度を高める。【構成】 光触媒被膜1はタイル等の表面が平滑な基板2上に湿式法にて形成され、また光触媒被膜1はTiO2粒子3...が焼結して構成され、そのネック部にはSnO24が凝縮し、ネック部を太くしてTiO2粒子3同士の結合を強め、結果として膜強度を高くしている。
請求項（抜粋）：
タイル等の基板上に形成される光触媒被膜において、この光触媒被膜はアナターゼ型の酸化チタン粒子が焼結してなり、また酸化チタン粒子の間隔は焼結の前後において略等しく、且つ酸化チタン粒子間のネック部には酸化チタンよりも蒸気圧が高い物質が凝縮していることを特徴とする光触媒被膜。
IPC (5件)：
B01J 21/06 ZAB
, B01D 53/86 ZAB
, B01J 23/14 ZAB
, B01J 35/02 ZAB
, C01G 23/04 ZAB
