特許

J-GLOBAL ID：200903040174731567

製膜方法と製膜装置及びデバイス製造方法並びにデバイス製造装置

発明者： 小山 実
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-246925
公開番号（公開出願番号）：特開2004-081988
出願日： 2002年08月27日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：

【課題】予備吐出時のスループットを向上させる。【解決手段】ヘッド21から液滴を予備吐出する予備吐出工程と、ヘッド21とワークWとを相対移動させて、ヘッド21からワークWの表面に液滴を吐出する液滴吐出工程とを有する。液滴の予備吐出をヘッド21とワークWとの相対移動中に行う。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

ヘッドから液滴を予備吐出する予備吐出工程と、前記ヘッドとワークとを相対移動させて、前記ヘッドから前記ワークの表面に液滴を吐出する液滴吐出工程とを有する製膜方法であって、 前記液滴の予備吐出を前記ヘッドと前記ワークとの相対移動中に行うことを特徴とする製膜方法。

IPC (8件)：

B05C5/00 ,  B05D1/26 ,  B05D7/00 ,  G02B1/10 ,  G02B5/20 ,  G02C7/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (8件)：

B05C5/00 101 ,  B05D1/26 Z ,  B05D7/00 H ,  G02B5/20 101 ,  G02C7/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  G02B1/10 Z

Fターム (30件)：

2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB37 ,  2H048BB42 ,  2K009BB02 ,  2K009BB11 ,  2K009DD01 ,  2K009DD02 ,  3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB07 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D075AC06 ,  4D075AC07 ,  4D075CA48 ,  4D075CB06 ,  4D075CB08 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA13 ,  4F041BA22 ,  4F041BA38