特許
J-GLOBAL ID：200903040179910923
光マスク、その製造方法と製造装置及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-092101
公開番号（公開出願番号）：特開平5-265177
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 光透過率が連続的に変化する領域を任意な形状で有する光マスク、及びその製造方法と製造装置、並びに光強度が微妙に制御された露光処理を一度の露光操作で行える露光装置を得ること。【構成】 非透光性有機膜(1)に厚さ変化を伴う凹部(11)を形成して光透過率を制御した光マスク、及び光吸収性物質の濃度分布により光透過率を制御した非透光性有機膜からなる光マスク、並びに非透光性有機膜にレーザー光を照射して膜形成物質を部分的に除去する、又は非透光性有機膜における光吸収性物質をレーザー光の照射で昇華又は分解処理して濃度分布を形成する上記光マスクの製造方法、並びにレーザー発振部と、レーザー光制御用のシャッターと、集光部と、シャッターと連動する走査用光学系からなる光マスクの製造装置、及びかかる光マスクを有する露光装置。
請求項（抜粋）：
非透光性有機膜に厚さ変化を伴う凹部を形成して光透過率を制御したことを特徴とする光マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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