特許

J-GLOBAL ID：200903040183433706

表面処理方法及びその装置

発明者： 草野 行弘 ,  吉川 雅人 ,  内藤 壽夫 ,  岡崎 幸子 ,  小駒 益弘
出願人/特許権者： 株式会社ブリヂストン ,  岡崎 幸子 ,  小駒 益弘
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-208570
公開番号（公開出願番号）：特開平5-023579
出願日： 1991年07月25日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：

【要約】【構成】 ガス導入口を有すると共に、先端開口部をガス放出口とした絶縁体容器と、該絶縁体内部に配置される電極と、該電極に電圧を印加するための電源と、前記絶縁体容器内部に所定のガスを供給するガス供給手段とを具備した表面処理装置を用い、前記絶縁体容器内部にガス導入口から所定のガスを導入フローさせると共に、前記電極に電圧を印加して前記先端開口部にプラズマを発生させ、該プラズマを前記絶縁体容器のガス放出口から外部に射出させ、かつ該プラズマが射出される位置に被処理物を配置して被処理物に表面処理を施す。【効果】 本発明によれば大気圧グロープラズマを極めて簡単な方法で点状或いは線状のプラズマとすることにより、各種材料のコーティング、エッチングなどの表面処理を大気中で効率よく行うことができ、更に局所的な処理を行うこともできる。

請求項（抜粋）：

ガス導入口を有すると共に、先端開口部をガス放出口とした絶縁体容器内部に電極を配置し、前記絶縁体容器内部にガス導入口から所定のガスを導入フローさせると共に、前記電極に電圧を印加して前記先端開口部にプラズマを発生させ、該プラズマを前記絶縁体容器のガス放出口から外部に射出させ、かつ該プラズマが射出される位置に被処理物を配置して被処理物を表面処理することを特徴とする表面処理方法。

IPC (7件)：

B01J 19/08 ,  C08F 2/52 MDY ,  C08F 36/06 MNX ,  C08J 7/00 306 ,  C23C 4/12 ,  C23C 14/12 ,  C23C 16/12

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-060732