特許
J-GLOBAL ID：200903040183608182
回折格子の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-357586
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162514
出願日： 2000年11月24日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：
【要約】【課題】 露光光に対して透明な基板上に高品質回折格子を形成する。【解決手段】 石英基板1の露光光が照射される側の面上に水溶性のレジストからなる光吸収層2を形成し、その上にフォトレジスト層3を形成する。干渉露光法によりフォトレジスト層3に回折格子パターンを形成する。回折格子パターンが形成されたフォトレジスト層3をマスクにして、水処理にて光吸収層2をパターニングする。フォトレジスト層3と光吸収層2をマスクにして石英基板1をエッチングして回折格子を形成する。その後、光吸収層2およびフォトレジスト層3を除去する。
請求項（抜粋）：
露光光に対して透明な基板の該露光光が照射される側の面上に、前記露光光を吸収する非金属からなる光吸収層を形成する工程と、該光吸収層の上にフォトレジスト層を形成する工程と、前記露光光を用いて前記フォトレジスト層に回折格子パターンを形成するリソグラフィ工程と、該回折格子パターンが形成された前記フォトレジスト層をマスクにして、前記光吸収層をエッチングする工程と、少なくとも前記回折格子パターンが形成された前記光吸収層をマスクにして、前記基板をエッチングして該基板に回折格子を形成する工程とを有することを特徴とする回折格子の形成方法。
Fターム (5件)：
2H049AA03
, 2H049AA13
, 2H049AA37
, 2H049AA44
, 2H049AA45
