特許
J-GLOBAL ID:200903040187380232

微粒子、微粒子の製造方法、及び製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  石田 悟
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-421509
公開番号(公開出願番号):特開2005-177596
出願日: 2003年12月18日
公開日(公表日): 2005年07月07日
要約:
【課題】 光破砕によって物質を効率良く微粒子化することが可能な微粒子の製造方法、製造装置、及び微粒子を提供する。【解決手段】 溶媒である水4、及び物質の原料粒子5からなる被処理液2を収容する処理チャンバ3と、被処理液2に微粒子化のためのレーザ光を照射するレーザ光源10と、微粒子の凝集を防止するための超音波を照射する超音波振動子20と、レーザ光源10によるレーザ光照射、及び超音波振動子20による超音波照射を同時に行うように制御する制御装置15とによって製造装置1Aを構成する。また、マイクロフォン30及び振動振幅測定装置35によって処理チャンバ3の振動振幅をモニタし、超音波の周波数を共鳴振動周波数に設定する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被処理液の溶媒中の物質を光破砕して、その物質の微粒子を製造する製造方法であって、 前記被処理液に対して所定波長のレーザ光を照射することによって、前記溶媒中にある前記物質を微粒子化すると同時に、微粒子同士の凝集を防止するための超音波を前記被処理液に照射することを特徴とする微粒子の製造方法。
IPC (2件):
B01J19/12 ,  B01J19/10
FI (2件):
B01J19/12 H ,  B01J19/10
Fターム (11件):
4G075AA27 ,  4G075BB08 ,  4G075BB10 ,  4G075CA03 ,  4G075CA23 ,  4G075CA36 ,  4G075CA57 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EC11
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る