基板処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-060218
公開番号（公開出願番号）：特開2006-121031
出願日： 2005年03月04日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】フィルタの目詰まりを紫外線の照射によって防止し、稼働率を向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】フィルタ25に流入する処理液には処理槽1で剥離された被膜のパーティクルや断片が存在しているので、フィルタ本体41に吸着される。しかし、これはUVランプ49,51による紫外線照射によって分解される。したがって、被膜に起因するフィルタ25の目詰まりが防止できるので、フィルタ25の交換頻度を低くできて装置の稼働率を向上させることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被膜が被着された基板に処理を行う基板処理装置において、処理液により基板の処理を行う処理部と、前記処理部から処理液を排出する排出管と、前記排出管に設けられたフィルタと、前記フィルタ内に流通している処理液に紫外線を照射するフィルタ用紫外線照射部と、を備えていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 , H01L 21/306

FI (5件)：

H01L21/304 648F , H01L21/304 648K , H01L21/304 648L , H01L21/304 648Z , H01L21/306 J

Fターム (5件)：

5F043CC16 , 5F043DD08 , 5F043DD12 , 5F043EE01 , 5F043EE33

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板処理装置及び基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-181445 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (8件)

特開昭63-272040
洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-058199 出願人：株式会社日立製作所, 日立北海セミコンダクタ株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-325332 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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