特許

J-GLOBAL ID：200903040202513899

金属用研磨液及び研磨方法

発明者： 内田 剛 ,  上方 康雄 ,  寺崎 裕樹 ,  倉田 靖 ,  五十嵐 明子
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-321721
公開番号（公開出願番号）：特開2001-139937
出願日： 1999年11月11日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：

【要約】【課題】 タンタル、窒化タンタルと銅の高い研磨速度比(Ta/Cu、TaN/Cu)を発現し、高平坦化及びディッシング量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ-ン形成を可能とする金属研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。【解決手段】 金属の酸化剤、芳香環含有一塩基酸及び水を含有し、pHが3以下であり、かつ金属の酸化剤の濃度が0.01〜3重量%である金属用研磨液。研磨定盤の研磨布に前記の金属用研磨液を供給しながら、被研磨膜を有する基板を研磨布に押圧した状態で研磨定盤と基板を相対的に動かすことによって被研磨膜を研磨する研磨方法。

請求項（抜粋）：

金属の酸化剤、芳香環含有一塩基酸及び水を含有し、pHが3以下であり、かつ金属の酸化剤の濃度が0.01〜3重量%である金属用研磨液。

IPC (6件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  C09K 13/00 ,  C09K 13/04 ,  H01L 21/304 622

FI (6件)：

C09K 3/14 550 Z ,  C09K 3/14 550 D ,  B24B 37/00 H ,  C09K 13/00 ,  C09K 13/04 ,  H01L 21/304 622 D

Fターム (9件)：

3C058AA07 ,  3C058AA12 ,  3C058AC04 ,  3C058CB01 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17