特許
J-GLOBAL ID：200903040203526803
レジスト形成用塗布物あるいはレジストの洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-305496
公開番号（公開出願番号）：特開平7-160008
出願日： 1993年12月06日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【構成】 プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート単独あるいはこれを主成分として含有する溶剤から成るレジスト形成用塗布物あるいはレジストの洗浄除去用溶剤。電子部品製造用基材は、スピンナーによりレジスト形成用塗布物を基材に塗布後、基材の周辺部、縁辺部及び裏面部に付着した不要のレジスト形成用塗布物を前記洗浄除去用溶剤で除去後乾燥処理するか、スピンナーによりレジスト形成用塗布物を基材に塗布、乾燥処理してレジストを形成後、基材の周辺部等に付着した不要のレジストを、前記洗浄除去用溶剤で除去して得られる。【効果】 上記溶剤は、レジストの溶解性、特に高エステル化キノンジアジド系感光剤をもつポジ型ホトレジストの溶解性に優れ、極めて安全性が高く、しかも溶解性が経時的に安定していて残さや析出物を生じることがなく、また、均一な膜厚のレジストをもつ高品質の電子部品製造用基材を簡単に効率よく製造することができる。
請求項（抜粋）：
プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート単独あるいはこれを主成分として含有する溶剤から成るレジスト形成用塗布物あるいはレジストの洗浄除去用溶剤。
IPC (2件)：
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