特許
J-GLOBAL ID：200903040206244728
フォトレジスト剥離用組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
香川 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-098494
公開番号（公開出願番号）：特開平11-282176
出願日： 1998年03月26日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】アルミニウムや銅等の導電膜を全く腐食することなく、エッチング時に形成されるレジスト変性物、および側壁保護膜を低温で短時間で剥離処理できるフォトレジスト剥離用組成物を提供する。【解決手段】非プロトン性極性溶媒が5〜90重量%、水が1〜70重量%、アミノアルコ-ルが1〜90重量%、およびエチレンジアミンテトラ酢酸もしくはその塩を必須とする防食剤が0.01〜40重量%からなるフォトレジスト剥離用組成物。
請求項（抜粋）：
非プロトン性極性溶媒、水、アミノアルコ-ル、およびエチレンジアミンテトラ酢酸もしくはその塩を必須とする防食剤からなることを特徴とするフォトレジスト剥離用組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/42
, H01L 21/30 572 B
