特許
J-GLOBAL ID：200903040209855370
無機膜形成用塗布剤、その製造方法及びその無機膜形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-232624
公開番号（公開出願番号）：特開2001-058825
出願日： 1999年08月19日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：
【要約】【課題】 無機膜形成用塗布剤を提供する。【解決手段】 加水分解して水酸基になる基を含有するチタンモノマー及び/又はその低縮合物を過酸化水素水と反応させて得られることを特徴とする無機膜形成用塗布剤。
請求項（抜粋）：
加水分解して水酸基になる基を含有するチタンモノマー及び/又はその低縮合物を過酸化水素水と反応させて得られることを特徴とする無機膜形成用塗布剤。
Fターム (4件)：
4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CC03
, 4G047CD02
