特許
J-GLOBAL ID:200903040225244127

シクロヘキシルアミノ酸類の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-208029
公開番号(公開出願番号):特開平10-045692
出願日: 1996年08月07日
公開日(公表日): 1998年02月17日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】シクロヘキシル基又は置換シクロヘキシル基を有する光学活性なアミノ酸誘導体の工業的な製造方法を提供する。【解決手段】芳香族アミノ酸または芳香族アミノ酸誘導体をルテニウム触媒の存在下、水素化反応して、シクロヘキシル基又は置換シクロヘキシル基を有する一般式1のアミノ酸又はアミノ酸誘導体を合成する。アミノ酸が無保護の場合は1当量以上の塩基を含有する水溶液中で、アミノ酸が保護されている場合は水溶液もしくはアルコール溶媒中で反応を行うと良い。(R1は置換基を有してもよいシクロヘキシル基又は置換基を有してもよいC7〜15のシクロヘキシルアルキル基を、P1、P2は独立して水素もしくはアミノ保護基を、又はP1及びP2は一体となって二官能性のアミノ保護基を、P3は水素またはカルボキシル保護基を、*は光学活性な炭素原子を表す。)
請求項(抜粋):
下記一般式(I)【化1】(式中のR1は置換基を有していてもよいシクロヘキシル基又は置換基を有してもよい炭素数7〜15のシクロヘキシルアルキル基を、P1、P2は互いに独立して水素もしくはアミノ保護基を、又はP1及びP2は一体となって二官能性のアミノ保護基を、P3は水素またはカルボキシル保護基を、*は光学活性な炭素原子を表す。)で示されるアミノ酸又はアミノ酸誘導体の製造において、下記一般式(II)【化2】(式中のR2は置換基を有しても良い炭素数6〜15のアリール基又は置換基を有しても良い炭素数7〜15のアラルキル基を、P1、P2、P3、*は上記した意味を表す。)で示される芳香族アミノ酸または芳香族アミノ酸誘導体を、ルテニウム触媒の存在下、水素化反応を行うことを特徴とする方法。
IPC (6件):
C07C229/28 ,  B01J 23/46 301 ,  C07B 53/00 ,  C07C227/16 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00
FI (5件):
C07C229/28 ,  B01J 23/46 301 Z ,  C07B 53/00 C ,  C07C227/16 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭46-006720
  • 特開昭49-062444
  • 特開昭49-072236

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