特許

J-GLOBAL ID：200903040241532353

化学的気相成長法及び化学的気相成長装置

発明者： 谷本 智
出願人/特許権者： 日産自動車株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-236247
公開番号（公開出願番号）：特開平9-077593
出願日： 1995年09月14日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：

【要約】【目的】 微細な陥没部において被覆性よく所望の薄膜が形成できる化学的気相成長法を提供すること。【構成】 化学的原料蒸気A,Bを反応器に輸送し、反応器内の基板もしくはその近傍で化学反応させ、該基板に薄膜を合成する化学的気相成長方法であって、常時昇圧させながら反応器に原料蒸気A,Bを導入する原料供給期間と、原料蒸気A,Bを導入停止し反応器内の残留ガスを排出する真空排気期間との対を一対含む1サイクルを繰り返し行うことによって、所望の膜を合成する。

請求項（抜粋）：

1つまたは複数の化学的原料蒸気を、反応器に輸送し、反応器内の基板もしくはその近傍で化学反応させ、該基板に薄膜を合成する化学的気相成長法において、常時昇圧させながら該反応器に該原料蒸気を導入する原料供給期間と、該原料蒸気を導入停止し反応器内の残留ガスを排出する真空排気期間との対を、一対または数対含む1サイクルを、繰り返し行うことによって、所望の膜を合成することを特徴とする化学的気相成長法。

IPC (6件)：

C30B 25/14 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/316

FI (6件)：

C30B 25/14 ,  C23C 16/44 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/316 X

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭61-251119