特許
J-GLOBAL ID：200903040244052379
レプリカミラーの製造方法および製造用型
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-166366
公開番号（公開出願番号）：特開平6-347620
出願日： 1993年06月11日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 ガラスマスター基板に施された離型剤の耐久性が良好で成形処理回数を飛躍的に増大させる。【構成】 ガラスマスター基板1に研磨等によって高精度の面精度をもつ研磨面を形成し、前記研磨面上に順次密着向上膜2、離型剤である5nmから50nmの膜厚の炭素蒸着膜3を成膜した製造用型を用い、前記炭素蒸着膜3上に、順次第1の保護層4、第1の増反射層5、第2の増反射層6、金属反射層7および第2の保護層8からなる多層の反射膜を成膜する。そののち、ベース基板10と前記反射膜を成膜した製造用型とを、ベース基板10と第2の保護層8との間に接着剤層9を介在させて接着する。接着後、炭素蒸着膜3と第1の保護層4との界面で前記製造用型側とベース基板側とを剥離することにより、前記反射膜を前記ベース基板10に転写する。
請求項（抜粋）：
高精度の面精度をもつガラスマスター基板に、離型剤として前記面精度を損わない程度の膜厚の炭素蒸着膜を成膜した製造用型を用い、前記製造用型の前記炭素蒸着膜上に蒸着によって多層の反射膜を成膜する工程と、前記反射膜が成膜された製造用型の反射膜側とベース基板とを接着剤を介在させて接着する接着工程と、前記接着工程後、前記炭素蒸着膜と前記反射膜との界面で剥離することにより、前記反射膜を前記ベース基板に転写することを特徴とするレプリカミラーの製造方法。
IPC (2件)：
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