特許

J-GLOBAL ID：200903040252915670

露光装置の調整方法及び露光装置

発明者： 太田 和哉 ,  谷元 昭一 ,  萩原 恒幸
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-268197
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100697
出願日： 1998年09月22日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 内部の光学系の調整を短時間に、かつ高精度に行うことができる露光装置の調整方法を提供する。【解決手段】 光源装置12内のレーザプラズマ光源で露光光としてのEUV光EL1、非露光光としての紫外光EL2、及び非露光光としての可視光ALを発生させて、光源装置12内の波長選択装置によってEUV光EL1、紫外光EL2、又は可視光ALの何れかをミラーMを介してレチクルRに照射し、レチクルRからの光を反射系よりなる縮小投影型の投影光学系POを介してウエハW上に導く。光源装置12内の一部の光学部材とミラーMとを含む照明系、及び投影光学系POの粗調整を可視光AL、又は紫外光EL2を用いて行い、照明系、及び投影光学系POの最終調整をEUV光EL1を用いて行う。

請求項（抜粋）：

露光用の照明光を発生する露光光源と、該露光光源からの照明光をマスクに照射する照明系とを備え、前記照明光のもとで前記マスクのパターンを基板上に転写する露光装置の調整方法であって、前記露光光源として前記露光用の照明光、及び該照明光と波長域の異なる非露光波長の光を発生する広帯域光源を使用し、前記照明系中の少なくとも一部の光学系の調整を行う際に、前記広帯域光源から射出される前記非露光波長の光を使用することを特徴とする露光装置の調整方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 515 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 518

Fターム (10件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CA08 ,  5F046CB03 ,  5F046CB17 ,  5F046DA12 ,  5F046GA03 ,  5F046GA18 ,  5F046GC03