特許

J-GLOBAL ID：200903040256129431

熱処理装置の温度制御方法

発明者： 鈴木 富士雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-249922
公開番号（公開出願番号）：特開平7-096170
出願日： 1993年09月09日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：

【要約】【目的】 外部温度センサのみで制御応答の高い温度制御行うことが可能な温度制御方法を提供する。【構成】 本発明によれば、式(1)で表されるFF信号f(t)f(t)=E*exp(-t/T) ...(1)(ここで、Eは最大振幅操作量を表し、Tは時定数を表す)と所望の設定温度を得るように加熱手段のような温調手段を駆動するための操作量信号とを合成し、その合成操作量信号に基づいて、外部温度を一旦オーバーシュートさせるように制御するので、内部温度の制御応答を従来の方法に比較して高めることが可能である。その場合に、その合成設定温度信号と外部温度センサによる検出値が一致するように制御すれば十分なので、内部温度センサを用いずとも正確かつ迅速な温度制御を行うことが可能である。

請求項（抜粋）：

処理室内に配列された被処理体を、その処理室の外部に設置された外部温度検出手段により検出された外部温度に基づいて、その処理室の外部に設置された温調手段により熱処理するにあたり、その外部温度を設定温度にするように前記温調手段を駆動するための操作量信号を予め与え、その操作量信号に基づいて昇温を行う所定時間にわたり予備昇温する予備昇温信号を作成し、前記所定時間にわたり、前記処理室の外部温度に基づく温度制御手段の出力と前記予備昇温信号とによって、前記温調手段の出力を制御することを特徴とする、熱処理装置の温度制御方法。

IPC (9件)：

B01J 19/00 ,  C23C 14/50 ,  C30B 25/16 ,  G05B 11/32 ,  G05D 23/00 ,  G05D 23/19 ,  G06F 19/00 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/324

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-160512
  
• 特開昭62-120518