レーザ放射を均質化する装置及び方法、並びにこのような装置及び方法を使用するレーザシステム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：杉村興作 , 高見和明 , 徳永博 , 岩佐義幸 , 藤谷史朗 , 来間清志 , 冨田和幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-247891
公開番号（公開出願番号）：特開2006-074041
出願日： 2005年08月29日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：

【課題】加工片をレーザによって表面処理する際に、レーザ放射を均質化する装置と方法を提供する。【解決手段】ホモジナイザ18でレーザ放射を均質化する装置及び方法において、レーザ10及びホモジナイザ18間の相対的位置及び/又は方向を測定する、又はホモジナイザ18の効果を測定する測定機器24と、この相対的位置及び/又は方向を測定の結果として変化させる機器26を備え、測定信号の関数として調節してレーザ放射を均質化する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レーザ放射が当たるホモジナイザ(18)でレーザ放射を均質化する装置において、当該装置が、 - 前記レーザ放射の、前記ホモジナイザに対する相対的な位置及び/又は方向を測定する、又は前記ホモジナイザの効果を測定する測定機器(24;24’)及び、 - 前記レーザ放射と前記ホモジナイザとの間の前記相対的な位置及び/又は方向を、前記測定の結果の関数として変化させる機器(26;26’) を具えていることを特徴とするレーザ放射均質化装置。

IPC (3件)：

H01L 21/268 , H01L 21/20 , H01S 3/00

FI (4件)：

H01L21/268 T , H01L21/268 J , H01L21/20 , H01S3/00 B

Fターム (17件)：

5F152AA08 , 5F152AA17 , 5F152CE05 , 5F152EE01 , 5F152EE03 , 5F152EE05 , 5F152FF06 , 5F152FG03 , 5F152FG29 , 5F152FH01 , 5F152FH04 , 5F172NN04 , 5F172NN32 , 5F172NP03 , 5F172NR05 , 5F172NR06 , 5F172NR14

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