特許
J-GLOBAL ID：200903040280569345
半導体基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-163210
公開番号（公開出願番号）：特開平6-005578
出願日： 1992年06月23日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】半導体基板ウェット処理装置における循環フィルタリングシステムにおいて、薬液の循環流量を間接的に測定することによって循環状態を監視し、フィルタリング能力の向上を図る。【構成】循環フィルタリングシステムにおけるベローズポンプ2を駆動制御しているエアーパルスタイマー4からの排気圧力の脈動を圧力センサー5で検知し、その出力をカウンタ6でカウントする。これによりベローズポンプの動作回数をカウントすることができ、薬液の循環状態を監視することができる。
請求項（抜粋）：
空気の出し入れにより薬液を圧送するベローズポンプとベローズへの空気の出し入れを制御するエアーパルスタイマーとを有する半導体基板処理装置において、前記ベローズ内の排気圧力変化を検知するセンサーと、このセンサーの出力により単位時間当りの圧力変化回数を測定し変化回数の規格幅を外れた場合警報を出すカウンターとを有することを特徴とする半導体基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, B01D 35/02
, H01L 21/306
