特許

J-GLOBAL ID：200903040281542904

光波干渉測定方法および測定装置

発明者： 植田 兼史
出願人/特許権者： 株式会社ミツトヨ
代理人 (1件)： 木下 實三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-264913
公開番号（公開出願番号）：特開平7-120210
出願日： 1993年10月22日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：

【要約】【目的】 被測定片(ブロックゲージ)の寸法を簡易に測定できる光波干渉測定方法および測定装置を提供する。【構成】 ベースプレート11を密着させたブロックゲージBGを傾斜テーブル装置21上にセットしたのち、ベースプレートの傾き角θを変化させ、そのときの位相差δおよび傾き角θの組を複数組求める。傾き角θはベースプレート上の領域にあてはめられたサインカーブの波数とその領域の寸法とから光軸と直交する面に対する傾き角θを求める。位相差δはベースプレート11、ブロックゲージBGの各領域にあてはめられた両サインカーブの位相差δから求める。各組の位相差δおよび傾き角θと光の波長λとからブロックゲージの寸法を求める。

請求項（抜粋）：

平行光線を2分割した一方の光の光路中にベースプレートを密着させた被測定片を挿入し、この被測定片およびベースプレートで反射した光を前記2分割した他方の光と干渉させ、それによって得られた干渉縞画像を基に被測定片の寸法を求める光波干渉測定方法において、前記干渉縞画像を電気信号に変換する工程と、前記干渉縞画像のベースプレート上の領域と被測定片上の領域とをそれぞれ設定する領域設定工程と、前記各領域にサインカーブをあてはめる工程と、前記ベースプレート上の領域にあてはめられたサインカーブの波数とその領域の寸法とから前記光の光軸と直交する面に対するベースプレートの傾き角θを求める傾き角算出工程と、前記各領域にあてはめられた両サインカーブの位相差δを求める位相差算出工程と、前記ベースプレートの傾き角θを変化させ、そのときの位相差δおよび傾き角θの組を複数組求め、これら各組の位相差δおよび傾き角θと光の波長λとから被測定片の寸法を求める長さ算出工程とを備える、ことを特徴とする光波干渉測定方法。