特許

J-GLOBAL ID：200903040290750560

2値化閾値の設定方法及び設定装置

発明者： 北門 龍治
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-202556
公開番号（公開出願番号）：特開平5-020445
出願日： 1991年07月16日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：

【要約】【目的】 プリント基板の配線パターンの2値化画像を得るための2値化閾値を、ステージの反射の影響を除いて設定する。【構成】 反射光の情報が電気的に変換された信号PS0 、透過光の情報が電気的に変換された信号HS0 はそれぞれA/D変換部210,220を通ってディジタル化され、基板信号PS,ホール信号HSとなる。ホール信号HSは更に2値化処理部240で2値化されて信号HISとなる。基板信号PSとホール信号HISとはマスク処理部230において論理合成され、ホール信号HISが“1”である位置に対応する基板信号PSの値は“0”に設定され、補正信号CSが得られる。この補正信号CSを用いてヒストグラム作成部250はヒストグラムGを作成し、これを基に2値化閾値Tが設定され、2値化回路270で基板信号PSが2値化される。【効果】 スルーホールを介してステージが光を反射した位置の情報を強制的に所定の値に設定できる。

請求項（抜粋）：

(a)第1及び第2の主面及び貫通孔を有し、比較的反射率が低く、遮光性を有する基板であって、更に前記第1の主面において比較的反射率の高いパターンを有する基板をステージ上に載置する工程と、(b)前記基板を光学的に読み取ることによって、前記第1主面のイメージを示す基板信号と、前記ステージのうち前記基板の載置されていない領域及び前記貫通孔のイメージを示すホール信号とを得る工程と、(c)前記基板信号と前記ホール信号とを論理合成して、前記ホール信号により前記基板信号をマスク処理した補正信号を得る工程と、(d)前記補正信号から前記第1主面の反射強度に関するヒストグラムを作成する工程と、(e)前記ヒストグラムから、前記基板信号を2値化する、2値化閾値を設定する工程と、を備える2値化閾値の設定方法。

IPC (3件)：

G06F 15/64 400 ,  G06F 15/68 320 ,  H04N 1/40 103

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特公昭61-025194
  
• 特公昭62-029737
  
• 特開平2-259552