特許
J-GLOBAL ID：200903040299266432
スチレン系重合体製造触媒及びそれを用いたスチレン系重合体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-164529
公開番号（公開出願番号）：特開平7-033812
出願日： 1993年07月02日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：
【要約】【目的】 新規な高活性触媒及び該触媒を用いて、高度なシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を効率よく製造する方法を提供すること。【構成】 五員環側に少なくとも一つの置換基をもつインデニル基をπ配位子として有する遷移金属化合物を含むスチレン系重合体製造触媒、および(A)上記遷移金属化合物,(B)アルミノキサン及び/又は非配位性アニオンとカチオンとのイオン性化合物及び場合により用いられる(C)ルイス酸からなるスチレン系重合体製造触媒、並びに上記触媒の存在下、スチレン系単量体を重合させるか、又はスチレン系単量体とオレフィンなどとを重合させて、スチレン系重合体を製造する方法である。
請求項（抜粋）：
五員環側に少なくとも一つの置換基をもつインデニル基をπ配位子として有する遷移金属化合物を含有してなるスチレン系重合体製造触媒。
IPC (3件)：
C08F 4/42 MEZ
, C08F 4/642 MFH
, C08F 12/08 MJT
