特許

J-GLOBAL ID：200903040302656778

汚染物質除去装置

発明者： 植木 拓也 ,  森本 裕文 ,  佐々木 寛
出願人/特許権者： ジャパンゴアテックス株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-071442
公開番号（公開出願番号）：特開平11-238376
出願日： 1998年03月05日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】 空気流中に含まれる汚染物質除去装置において、汚染物質除去能にすぐれ、しかも圧力損失の少ないものを提供する。【解決手段】 合成樹脂の多孔質フィルムからなり、その表面に拡散層を有するガス吸着シートをその拡散層が容器開口部側に位置するように容器内に収容させるとともに、その容器開口部を中央部に空気流入口を有する蓋体フィルムを用いて封止した構造を有し、かつ該ガス吸着シートの圧力損失が拡散層の圧力損失よりも大きく、さらに該ガス吸着シート中に含まれる吸着剤の密度が0.4〜1.5g/ccであることを特徴とする空気流中に含まれる汚染物質除去装置。

請求項（抜粋）：

合成樹脂の多孔質フィルムからなり、その表面に拡散層を有するガス吸着シートをその拡散層が容器開口部側に位置するように容器内に収容させるとともに、その容器開口部を中央部に空気流入口を有する蓋体フィルムを用いて封止した構造を有し、かつ該ガス吸着シートの圧力損失が該拡散層の圧力損失よりも大きく、さらに該ガス吸着シート中に含まれる吸着剤の密度が0.4〜1.5g/ccであることを特徴とする空気流中に含まれる汚染物質除去装置。

IPC (3件)：

G11B 33/14 501 ,  B08B 7/00 ,  B32B 5/18

FI (3件)：

G11B 33/14 501 Z ,  B08B 7/00 ,  B32B 5/18

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ハウジング手段と化学フイルタ・アセンブリとの組合せ構造、磁気書込み記憶装置及び単一材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-147856   出願人：インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイシヨン
• ハードディスクドライブ用フィルター
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-328190   出願人：ジャパンゴアテックス株式会社