特許
J-GLOBAL ID：200903040309431070
プラズマ成膜装置および成膜方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-187111
公開番号（公開出願番号）：特開2000-017428
出願日： 1998年07月02日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：
【要約】【課題】 電気的絶縁性の膜材料を不純物を混入させることなく、被処理物表面上に確実にしげる膜できるプラズマ成膜装置を提供する。【解決手段】 ハース41′にキャリアガスまたは反応性ガスを膜材料200に向けて放出するためのガス放出通路41e′が形成されている。
請求項（抜粋）：
真空室内にてハースに収容した膜材料をプラズマビームによって蒸発させることによって膜を被処理物体に付着させるプラズマ成膜装置において、前記ハースには、キャリアガスまたは反応性ガスを膜材料に向けて放出するためのガス放出孔が形成されていることを特徴とするプラズマ成膜装置。
Fターム (6件)：
4K029BC05
, 4K029CA01
, 4K029CA02
, 4K029DA05
, 4K029DB12
, 4K029DB17
