特許

J-GLOBAL ID：200903040316790019

成膜装置

発明者： 渡辺 洋之 ,  長崎 英夫 ,  加納 浩志 ,  森 圭三 ,  永島 勝 ,  岸下 洋樹 ,  森 敬郎 ,  紙山 功 ,  金 康憲
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-031376
公開番号（公開出願番号）：特開2004-241319
出願日： 2003年02月07日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：

【課題】搬送路と処理室とが連続する成膜装置において、稼働率の向上や、新規プロセス条件出しに機敏に対応できるようにすること。【解決手段】本発明は、ガラス基板1の搬送路11および処理室が連続して設けられ、搬送路11を経由して処理室へ送られてきたガラス基板1に対し、ライン型蒸発源2もしくは基板を移動させながらガラス基板1への成膜処理を行う成膜装置10において、搬送路11から分岐して複数の処理室12a、12bが設けられているものである。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板の処理を行う処理室および処理工程間で基板を搬送する搬送路が連続した空間内に設けられ、 前記搬送路を経由して前記処理室へ送られてきた前記基板に対し、材料発生源もしくは前記基板を移動させながら前記基板への成膜処理を行う成膜装置において、 前記搬送路から分岐して複数の処理室が設けられている ことを特徴とする成膜装置。

IPC (6件)：

H05B33/10 ,  B65G49/06 ,  C23C14/24 ,  C23C14/56 ,  H01L21/68 ,  H05B33/14

FI (6件)：

H05B33/10 ,  B65G49/06 Z ,  C23C14/24 J ,  C23C14/56 F ,  H01L21/68 A ,  H05B33/14 A

Fターム (16件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029KA01 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031MA04 ,  5F031MA06 ,  5F031MA29 ,  5F031PA05