特許
J-GLOBAL ID：200903040329355656

光学的造形方法および光学的造形装置

発明者：
浅野 純一

浅野 純一 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-060651
公開番号（公開出願番号）：特開平6-270265
出願日： 1993年03月19日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：
【要約】【目的】輪郭線で囲まれた閉じ領域の変形を防止し、短時間で造形する。【構成】輪郭線OLより内側の領域に光線LBを走査して光硬化性樹脂1を硬化させるにあたり、中間領域情報抽出部5fの抽出結果に基づいた走査と、内部領域情報抽出部5gの抽出結果に基づいた走査とに分けて行う。これらの走査は互いにほぼ直交するラスター走査であって、内部領域情報抽出部5gの抽出結果に基づいた走査は高速かつ下層に至らない深さの走査であるのに対し、中間領域情報抽出部5fの抽出結果に基づいた走査は低速かつ下層に至る深さの走査とする。これらのラスター走査にあたって、中間領域R1 を造形領域の輪郭線OLより所定距離r1 だけ内側の領域とし、内部領域R2 を中間領域を区画する境界線OLA よりさらに所定距離r2 -r1 だけ内側の領域として光線を走査する。
請求項（抜粋）：
光硬化性樹脂液面上に光線を走査し、硬化した走査硬化層を順次積み上げて立体樹脂モデルを得る光学的造形方法において、等高断面層の造形領域を形成するにあたり、前記造形領域の内部領域を高速かつ下層に至らない深さで前記光線を走査したのち、前記内部領域と当該内部領域より予め決められた距離だけ外側の領域とを含む中間領域を低速かつ下層に至る深さで前記光線を走査することを特徴とする光学的造形方法。
IPC (3件)：
B29C 67/00 ,  B29C 35/08 ,  B29K105:24
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (1件)
  • 特開平2-074462

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