特許
J-GLOBAL ID:200903040330258249

配線部材とその製造方法、及び半導体装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-129369
公開番号(公開出願番号):特開2000-323810
出願日: 1999年05月11日
公開日(公表日): 2000年11月24日
要約:
【要約】【課題】 半導体素子を配線基板に搭載するためのインターポーザ用の配線部材、ないし半導体装置形成用の配線部材で、高密度、微細配線が可能で、且つ、電気特性の面でも優れた配線部材と、それを用いた半導体装置を提供する。同時に、そのような配線部材の製造方法を提供する。【解決手段】 半導体素子をプリント回路基板に搭載するためのインターポーザ用の配線部材、あるいは半導体装置形成用の配線部材であって、金属板材の所定箇所に貫通孔を設けた導電性基板の第1の面側に、選択めっき形成された配線部を絶縁性層を介して設け、前記配線部に接続し、導電性基板の第2の面側に到達するビアホールを配設し、ビアホールの第2の面側を端子部としており、且つ、少なくとも、導電性基板の所定の貫通孔に、貫通孔の壁面全体を覆うよう絶縁層を設けて、導電性層で貫通孔を埋める充填タイプのビアホールを有する。
請求項(抜粋):
半導体素子をプリント回路基板に搭載するためのインターポーザ用の配線部材、あるいは半導体装置形成用の配線部材であって、金属板材の所定箇所に貫通孔を設けた導電性基板の第1の面側に、選択めっき形成された配線部を絶縁性層を介して設け、前記配線部に接続し、導電性基板の第2の面側に到達するビアホールを配設し、ビアホールの第2の面側を端子部としており、且つ、少なくとも、導電性基板の所定の貫通孔に、貫通孔の壁面全体を覆うよう絶縁層を設けて、導電性層で貫通孔を埋める充填タイプのビアホールを有することを特徴とする配線部材。
IPC (3件):
H05K 1/18 ,  H01L 21/768 ,  H01L 23/12
FI (3件):
H05K 1/18 U ,  H01L 21/90 A ,  H01L 23/12 Q
Fターム (19件):
5E336AA04 ,  5E336AA09 ,  5E336BC01 ,  5E336BC16 ,  5E336CC55 ,  5F033GG03 ,  5F033HH11 ,  5F033JJ11 ,  5F033MM30 ,  5F033PP27 ,  5F033PP28 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ19 ,  5F033QQ37 ,  5F033RR21 ,  5F033RR22 ,  5F033RR27 ,  5F033SS30
引用特許:
審査官引用 (12件)
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