特許
J-GLOBAL ID:200903040354658809
X線光源装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-187752
公開番号(公開出願番号):特開2000-019297
出願日: 1998年07月02日
公開日(公表日): 2000年01月21日
要約:
【要約】【課題】X線光学系へのデブリの付着を確実に防止し、高強度の軟X線を安定して発生できるX線光源装置とする。【解決手段】ターゲット30とX線光学系6との間に、高分子フィルム70を供給する供給装置51と高分子フィルム70を回収する回収装置52とを備えた。真空槽1内を浮遊している飛散粒子は高分子フィルム70に遮蔽されるため、X線光学系6にデブリが付着するのが防止される。
請求項(抜粋):
真空槽と、該真空槽内に配置されたターゲットと、該ターゲットにレーザー光を照射することによりレーザープラズマX線を発生させるレーザー光源と、発生した該X線を集光するX線光学系とを備えてなるX線光源装置において、該ターゲットと該X線光学系との間のX線光路に該X線光路と略垂直に厚さ3μm以下の高分子フィルムを供給する供給装置を備えたことを特徴とするX線光源装置。
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