特許
J-GLOBAL ID：200903040359264930
光導波路及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-000170
公開番号（公開出願番号）：特開平5-181031
出願日： 1992年01月06日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】コアとクラッドの屈折率差が大きく、反りの小さい低損失な光導波路を安価に製造する。【構成】SiO2 基板1上に、プラズマCVD法によって作成したSiONHの凸状コア2をもつ。このコア2の屈折率nw は1.46〜1.57の範囲から選べるため屈折率制御用添加物を含ませる必要がない。コア2を覆うクラッド3にはSiO2 を用い、さらに比屈折率差の増大化と熱膨張係数の調節用としてB、P、F、等の屈折率制御用添加物を少なくとも1種含んだものを用いる。クラッド3にSiO2 を用いると、コア2とクラッド3との比屈折率差は0.17%から7.0%の範囲で変えることができる。SiONHの膜はSiO2 基板1、クラッド3の熱膨張係数に近い値をもつため、反りが小さくなる。
請求項（抜粋）：
屈折率がnw の凸状のコアの外周を屈折率がnc (nc w )のクラッドで覆った光導波路において、上記コアの材質にSiOX NY HZ (x,y>0,z≧0の実数)を用いたことを特徴とする光導波路。
引用特許：
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