特許
J-GLOBAL ID:200903040377021760
ガス処理方法とそのシステム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
橋本 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-098733
公開番号(公開出願番号):特開2004-307876
出願日: 2003年04月02日
公開日(公表日): 2004年11月04日
要約:
【課題】より低廉かつ効率的さらに安定した二酸化炭素の除去と水素の生成。【解決手段】ナトリウムイオンを透過する電解質膜10と、電解質膜10に設けられナトリウム化合物の水溶液が供されるアノード11と、電解質膜10に設けられ水若しくは水酸化ナトリウム水溶液と混合させた被処理ガスが供されるカソード12とを備え、この両極間に直流電圧を印加してカソード11側においてガス中の二酸化炭素を炭酸塩の形態で分離除去するすると共に水素ガスを生成するガス処理装置1と、アノード11に供する被処理ガスに水を注入する手段14とを備えた。尚、被処理ガスをガス処理装置1に供するにあたり、水の他に水酸化ナトリウム水溶液を注入してもよい。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ナトリウムイオンを透過する電解質膜にアノードとカソードとを設け、アノードにはナトリウム化合物の水溶液を接触すると共に、カソードには水若しくは水酸化ナトリウム水溶液と混合させた被処理ガスを供し、この両極間に直流電圧を印加することにより、カソード側において前記ガス中の二酸化炭素を炭酸塩の形態で分離除去すると共に水素ガスを生成すること
を特徴とするガス処理方法。
IPC (3件):
C25B1/02
, B01D61/44
, C25B15/08
FI (3件):
C25B1/02
, B01D61/44 520
, C25B15/08 302
Fターム (27件):
4D006GA17
, 4D006HA41
, 4D006KA72
, 4D006KB30
, 4D006MA03
, 4D006MB07
, 4D006PB12
, 4D006PB27
, 4D006PC80
, 4G146JB04
, 4G146JC29
, 4G146JD02
, 4K021AA01
, 4K021BA01
, 4K021BC01
, 4K021BC02
, 4K021BC04
, 4K021CA08
, 4K021CA09
, 4K021CA11
, 4K021DB18
, 4K021DB19
, 4K021DB31
, 4K021DB43
, 4K021DB53
, 4K021DC03
, 4K021DC11
引用特許:
引用文献:
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