特許
J-GLOBAL ID:200903040392239291
ガス供給方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-401179
公開番号(公開出願番号):特開2002-194548
出願日: 2000年12月28日
公開日(公表日): 2002年07月10日
要約:
【要約】【課題】 チャンバー内に供給される処理ガスの分圧低下を抑制して処理効率を向上させることが可能なガス供給方法を提供する。【解決手段】 フッ素含有ガス及び酸素含有ガスの少なくとも一方を含む処理ガスを導入して所定の処理を行う処理部11と、第1のガス導入部及び第2のガス導入部を有し、処理部からのガスを第1のガス導入部から導入して排気する第1の排気部15と、第1の排気部からのガスを外部に排気する第2の排気部16と、第1の排気部から排出されたガスの一部を処理部に供給する第1の配管部18,21,24とを備え、処理部に導入される処理ガスの少なくとも一部を第1の排気部の第2のガス導入部から導入し、第1の排気部から排出された処理ガスを第1の配管部を通して処理部に供給する。
請求項(抜粋):
フッ素含有ガス及び酸素含有ガスの少なくとも一方を含む処理ガスを導入して所定の処理を行う処理部と、第1のガス導入部及び第2のガス導入部を有し、前記処理部からのガスを第1のガス導入部から導入して排気する第1の排気部と、前記第1の排気部からのガスを外部に排気する第2の排気部と、前記第1の排気部と第2の排気部との間に設けられ、前記第1の排気部の背圧を調整する背圧調整部と、前記第1の排気部から排出されたガスの一部を前記処理部に供給する第1の配管部と、を備えたガス循環処理装置におけるガス供給方法であって、前記処理部に導入される処理ガスの少なくとも一部を前記第1の排気部の第2のガス導入部から導入し、前記第1の排気部から排出された処理ガスを前記第1の配管部を通して前記処理部に供給することを特徴とするガス供給方法。
IPC (5件):
C23C 16/44
, B01J 4/00 102
, B01J 19/08
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
FI (5件):
C23C 16/44 J
, B01J 4/00 102
, B01J 19/08 H
, H01L 21/31 B
, H01L 21/302 N
Fターム (60件):
4G068AA01
, 4G068AA07
, 4G068AB01
, 4G068AC05
, 4G068AC14
, 4G068AD21
, 4G068AD39
, 4G068AD49
, 4G068AF01
, 4G068AF22
, 4G068AF29
, 4G068AF36
, 4G075AA24
, 4G075AA53
, 4G075AA57
, 4G075AA61
, 4G075BA01
, 4G075BC04
, 4G075BC06
, 4G075BD10
, 4G075CA05
, 4G075CA15
, 4G075CA25
, 4G075CA62
, 4G075EA05
, 4G075EB01
, 4G075EB42
, 4G075EC21
, 4G075EE12
, 4K030DA06
, 4K030EA12
, 4K030JA09
, 5F004AA15
, 5F004AA16
, 5F004BA00
, 5F004BB18
, 5F004BB28
, 5F004BC04
, 5F004BD04
, 5F004DA00
, 5F004DA01
, 5F004DA02
, 5F004DA03
, 5F004DA15
, 5F004DA16
, 5F004DA17
, 5F004DA18
, 5F004DA19
, 5F004DA20
, 5F004DA26
, 5F004DA27
, 5F004DA28
, 5F045AA03
, 5F045AA08
, 5F045BB14
, 5F045DP03
, 5F045EB06
, 5F045EF05
, 5F045EG09
, 5F045EH13
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