特許
J-GLOBAL ID：200903040401211338
感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-268137
公開番号（公開出願番号）：特開2006-084660
出願日： 2004年09月15日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、PEB温度依存性、ラインエッジラフネスが改善された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】特定構造の化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(I)又は(I')で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (12件)：
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 4H006AA03
, 4H006AB78
出願人引用 (3件)
審査官引用 (9件)
全件表示
前のページに戻る
