特許

J-GLOBAL ID：200903040402539400

液処理方法、液処理装置、薄膜形成システム

発明者： 加藤 善規 ,  佐藤 浩 ,  丸茂 吉典
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 木村 満 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-135229
公開番号（公開出願番号）：特開2001-319850
出願日： 2000年05月08日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：

【要約】【課題】 被処理体の周縁の洗浄を微細に制御可能な液処理方法、液処理装置、薄膜形成システムを提供する。【解決手段】 ウェハWを保持する保持部材52の少なくとも一つを、ウェハWに付与される荷重が異なるように形成する。そして、保持手段52を回転させてウェハWを回転させると、ウェハWに付与される荷重の違いにより、ウェハWの回転中心軸72と、ウェハWの中心71とが異なり、ウェハWは所定の方向に若干移動した状態で安定して回転する。

請求項（抜粋）：

複数の保持部材を被処理体の側方から荷重を加えて該被処理体を保持し、前記保持部材及び該保持部材に保持された前記被処理体を回転させ、前記被処理体の周縁部に洗浄液を供給して、前記被処理体の周縁を洗浄する液処理方法であって、前記保持部材の少なくとも一つを、前記被処理体に付与される荷重が異なるように保持する、ことを特徴とする液処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/04 ,  G03F 7/16 502

FI (4件)：

B08B 3/02 C ,  B08B 3/04 B ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 577

Fターム (15件)：

2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  2H025EA10 ,  3B201AA03 ,  3B201AB05 ,  3B201AB33 ,  3B201AB44 ,  3B201BB24 ,  3B201BB34 ,  3B201BB43 ,  3B201BB88 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  5F046LA08 ,  5F046MA19