特許
J-GLOBAL ID：200903040406183065
静電吸着装置、及びその静電吸着装置を用いた真空処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-136199
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233600
出願日： 1998年05月19日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】不均一な残留吸着力を生じない静電吸着装置、及びその静電吸着装置を用いた真空処理装置を提供する。【解決手段】静電吸着装置2の吸着板12の表面を凹凸に形成し、その凸部91、92が吸着板12内部の正負電極15、16上に配置されるようにする。載置面18上に基板20を載置したときに、基板20の裏面と凸部91、92の表面とが面接触し、凹部8の底面とは非接触の状態で静電吸着される。凸部91、92表面と接触している部分では、基板20と電極間の距離は一定になるから、凸部91、92上では静電吸着力は均一であり、残留吸着力も均一になる。従って、多数の基板を処理する際に、基板間の静電吸着力が等しくなる。
請求項（抜粋）：
電気絶縁性の材料で構成され、内部に導電性材料で構成された電極が設けられた吸着板を有し、前記吸着板表面に形成された載置面上に処理対象物の基板を載置し、前記電極に電圧を印加すると、前記基板を静電吸着できるように構成された静電吸着装置であって、前記載置面は凹凸に形成され、その凸部は、電極上に位置するように構成されたことを特徴とする静電吸着装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/68 P
, H01L 21/68 R
, B23Q 3/15 D
