特許

J-GLOBAL ID：200903040406380685

銅の高電流密度電解精製方法

発明者： 古田 基美 ,  拝生 憲治 ,  橋本 守友 ,  薦田 康夫
出願人/特許権者： 三井金属鉱業株式会社
代理人 (1件)： 小林 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-158020
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335983
出願日： 2000年05月29日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：

【要約】【課 題】 銅の高電流密度電解操業において、電気銅S品位の低減と電力原単位の改善を同時に達成できる銅の電解精製方法を提供する。【解決手段】 銅の高電流密度電解精製方法において、添加剤としてニカワ、チオ尿素とともに陰イオン活性剤を用いる。この陰イオン活性剤は、炭素数7〜13のものが好ましく、なかでも、スルホン酸塩、硫酸塩、リン酸塩、カルボン酸塩のうちから選ばれた1種または2種以上が好ましい。また、陰イオン活性剤の電解液への投入形態は連続的投入が好ましく、また、その添加量は、製品電気銅1t当たり1g/t 以上に設定することが好ましい。

請求項（抜粋）：

銅の高電流密度電解精製方法において、添加剤として、ニカワ、チオ尿素を用いるとともに、陰イオン活性剤を用いることを特徴とする銅の高電流密度電解精製方法。

Fターム (6件)：

4K058AA14 ,  4K058AA15 ,  4K058BA21 ,  4K058BB03 ,  4K058CA08 ,  4K058CA22