特許

J-GLOBAL ID：200903040434209118

露光における位置合わせ方法および装置

発明者： 三宅 栄一
出願人/特許権者： サンエー技研株式会社
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-221374
公開番号（公開出願番号）：特開平7-049575
出願日： 1993年09月06日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：

【要約】【目的】 大型基板に対してもフォトマスクを高精度で適正に位置合わせできるようにする。【構成】 位置合わせ装置は、フォトマスク保持手段2、3と、基板保持手段7と、検出手段9と、力付与手段3とを備える。フォトマスク1および基板にはそれぞれ位置合わせマーク5、8が形成されている。マーク5、8相互間の位置ずれ量を検出手段9により検出し、それに基づき力付与手段3がフォトマスク1の周縁に力を加える。それによりフォトマスク1はその面内で弾性的に変形し、該マスク1の位置合わせマーク5は移動する。その結果、マスク1の位置合わせマーク5と基板6の位置合わせマーク8との間の位置ずれ量が所定の値となる。

請求項（抜粋）：

露光における位置合わせ方法において、パターンが描かれ且つ複数個の位置合わせマークを有するフォトマスクを準備する段階と、前記フォトマスクの位置合わせマークに対応する複数個の位置合わせマークを有する基板を、その露光すべき面を前記フォトマスクに向けて配置する段階と、前記フォトマスクおよび前記基板のそれぞれの対応する位置合わせマーク相互間の位置ずれ量を検出する段階と、前記フォトマスクの周縁の少なくとも一部に力を加えて該フォトマスクをその面内で弾性的に変形させることにより、前記位置ずれ量を所定の値にする段階と、からなる位置合わせ方法。

IPC (3件)：

G03F 9/00 ,  G03B 27/32 ,  H05K 3/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-247528
  
• 特開昭62-247528