特許
J-GLOBAL ID:200903040434739133

プラズマ耐食性ガラス及びこれを用いた装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小谷 悦司 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-035254
公開番号(公開出願番号):特開平11-228172
出願日: 1998年02月17日
公開日(公表日): 1999年08月24日
要約:
【要約】【課題】 プラズマ発生部分に使用する容器として、高周波透過性、気密性に優れ、しかもプラズマガスに対する耐食性に優れたガラス及びこれを用いた半導体製造装置又は液晶製造装置を提供する。【解決手段】 ガラス形成物質の主体がSiO2 であるガラスにおいて、アルミニウムが0.05〜1 0原子%含有されている。あるいはアルミニウムが0.01〜1 0原子%及び窒素が10原子%以下(0を含まない)が含有されている。ことを特徴とする。ガラス表面に酸化アルミニウム濃化層が形成されていることが好ましく、アルカリ金属及び/又は遷移金属の含有量は、総量で90ppm 以下であることが好ましい。
請求項(抜粋):
ガラス形成物質の主体がSiO2 であるガラスにおいて、アルミニウムが0.05〜1 0原子%含有されていることを特徴とするプラズマ耐食性ガラス。
IPC (7件):
C03C 4/00 ,  C03C 3/06 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/68
FI (7件):
C03C 4/00 ,  C03C 3/06 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 M ,  H01L 21/22 511 M ,  H01L 21/68 N

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