特許

J-GLOBAL ID：200903040453243440

不変特徴部を有する平面上で長寸の物体の先端の絶対位置を決定するための方法及び装置

発明者： ブエーマン、デイル・エイチ ,  マンデラ、マイケル・ジェイ ,  カール、スチュワート・アール ,  ザング、グアングア・ジー ,  ゴンザレズ-バノス、ヘクター・エイチ
出願人/特許権者： エレクトロニック・スクリプティング・プロダクツ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 大島 陽一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-547475
公開番号（公開出願番号）：特表2007-515655
出願日： 2004年12月22日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：

【課題】 ユーザフレンドリな入力インタフェースを提供する。【解決手段】 長寸の物体の姿勢と、不変特徴部がある平面に物体の先端が接触する間に先端の絶対位置とを決定する装置及び方法を提供する。この方法は、プローブ放射線により平面及び不変特徴部を照明する過程と、平面及び不変特徴部から長寸の物体の軸線に対して角度τで長寸の物体に戻るプローブ放射線の散乱部分を検出する過程を提供する。姿勢は、散乱部分の反応から表面及び不変特徴部または特徴部へ導き出される。表面上の先端の絶対位置は、姿勢と、不変特徴部に関する情報から求められる。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

不変特徴部を有する平面に接触する先端を有する長寸の物体の姿勢を決定する方法であって、 a)プローブ放射線により前記平面及び前記不変特徴部を照明する過程と、 b)前記長寸の物体の軸線に対して角度τで前記長寸の物体に戻る前記プローブ放射線の散乱部分を検出する過程と、 c)前記姿勢を前記散乱部分の前記平面及び前記不変特徴部に対する反応から導き出す過程と、 d)前記姿勢及び前記不変特徴部から前記表面上の前記先端の絶対位置を求める過程と、を含むことを特徴とする方法。

IPC (2件)：

G01B 11/00 ,  G01B 11/26

FI (2件)：

G01B11/00 H ,  G01B11/26 H

Fターム (33件)：

2F065AA04 ,  2F065AA37 ,  2F065BB06 ,  2F065BB11 ,  2F065EE00 ,  2F065EE08 ,  2F065FF41 ,  2F065GG02 ,  2F065GG04 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065GG08 ,  2F065GG12 ,  2F065GG18 ,  2F065HH03 ,  2F065HH04 ,  2F065HH08 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL19 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065MM26 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ42