特許
J-GLOBAL ID：200903040491902822
洗浄剤組成物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-147482
公開番号（公開出願番号）：特開平5-339597
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 1993年12月21日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 皮膚刺激が少なく、すすぎ時のぬめり感が少なく、乾燥後のサッパリ感がすぐれている洗浄剤組成物を提供する。【構成】 式(1)又は(2)の化合物と式(3)の化合物との反応生成有機化合物からなるアミドアミン型またはアミドベタイン型両性界面活性剤からなる成分(A)と、式(4)のN-ポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテルサルフェートからなる成分(B)とを含む洗浄剤組成物。〔R1 =C7-19アルキル、又はアルケニル基、R2 ,R3 =ヒドロキシエチル基、又はH,R4 =C7-19アルキル、又はアルケニル基、R5 ,R6 =メチル、エチル、ヒドロキシアルキレン基、R7 =C7-19アルキル、又はアルケニル基、M1 =アルカリ金属、アンモニウム、アルカノールアミン、低級脂肪族アミンのカチオン残基、又はH,M2 =アルカリ金属、又はアルカリ土類金属、アンモニウム基、或はトリエタノールアミン、又は塩基性アミノ酸の陽イオン残基。〕
請求項（抜粋）：
下記2成分(A)および(B):(A)下記一般式(1)および(2):【化1】〔但し、式(1)中、R1 は炭素数7〜19のアルキル基、またはアルケニル基を表わし、R2 、およびR3 はヒドロキシエチル基、または水素原子を表わし、式(2)中、R4 は炭素数7〜19のアルキル基、またはアルケニル基を表わし、R5 およびR6 はメチル基、エチル基、またはヒドロキシアルキレン基を表わす。〕のアミドアミン化合物から選ばれた少なくとも1種と、下記一般式(3):【化2】〔但し、式(3)中、M1 はアルカリ金属原子、アンモニウム基、アルカノールアミンおよび低級脂肪族アミンの陽イオン残基、並びに水素原子から選ばれた1種を表わす。〕で示されるモノクロル酢酸化合物と、の反応生成有機化合物からなるアミドアミン型、またはアミドベタイン型両性界面活性剤、および、(B)下記一般式(4):【化3】〔但し、式(4)中、R7 は、炭素数7ないし19のアルキル基、またはアルケニル基を表わし、M2 はアルカリ金属およびアルカリ土類金属原子、アンモニウム基、並びにトリエタノールアミンおよび塩基性アミノ酸の陽イオン残基から選ばれた1種を表わし、nは2〜10の整数を表わし、mはM2 により表わされる原子又は基の価数に等しい整数を表わす。〕のN-ポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテルサルフェート、を含む洗浄剤組成物。
IPC (5件)：
C11D 1/65
, A61K 7/075
, A61K 7/50
, C11D 1:52
, C11D 1:29
