特許

J-GLOBAL ID：200903040494302613

転写箔とその製造方法及びそれを用いた成形品の製造方法

発明者： 中井 康二 ,  中村 祐三 ,  山田 功作
出願人/特許権者： 日新ハイボルテージ株式会社 ,  日本写真印刷株式会社 ,  早川ゴム株式会社
代理人 (1件)： 川瀬 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-103657
公開番号（公開出願番号）：特開平11-277990
出願日： 1998年03月30日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 転写時にクラックを発生することなく耐薬品性や耐摩耗性のある保護層を与える転写箔とその転写方法およびそれを用いた成形品の製造方法を提供する。【解決手段】 基材シート上に、重量平均分子量1万〜10万、1分子に対して(メタ)アクリロイル基が平均15個以上付加された反応性ポリマーA、官能基数3以上のモノマーまたはオリゴマーBをA:B=20〜80:80〜20の割合で含み、光重合開始剤Cを0〜15重量%を含む液状又は粘着体状の保護層組成物を塗布し、0.05Mrad〜2Mradの電子線を予備照射して印刷、巻取可能な状態にし、絵柄層、接着層を形成して転写箔とし、成形物に貼り付け、基材シートを除き、又は基材シートを除く前に基材シートの上から50mJ/cm2 以上の紫外線又は1Mrad以上の電子線を照射して最終架橋する。

請求項（抜粋）：

基材シート上に、重量平均分子量1万〜10万、1分子に対して(メタ)アクリロイル基が平均15個以上付加された反応性ポリマーAと、官能基数3以上のモノマーまたはオリゴマーBとを、A対Bの比率が20〜80:80〜20であるように含み、(A+B)に対し0〜15重量%の光重合開始剤Cを含む保護層が形成され、保護層が0.05Mrad〜2Mradの電子線を予備照射されて印刷、巻取可能な状態とされ、さらにその上に、接着層が形成された事を特徴とする転写箔。

IPC (3件)：

B44C 1/165 ,  B41J 17/00 ,  G03F 7/004 524

FI (4件)：

B44C 1/165 K ,  B44C 1/165 J ,  B41J 17/00 ,  G03F 7/004 524

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平2-063824