特許

J-GLOBAL ID：200903040498336687

電子顕微鏡用試料作成装置および方法

発明者： 吉岡 忠則 ,  成瀬 幹夫 ,  木原 春巳
出願人/特許権者： 日本電子株式会社 ,  日本電子データム株式会社
代理人 (1件)： 田中 隆秀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-016812
公開番号（公開出願番号）：特開平9-210883
出願日： 1996年02月01日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】 薄い電顕用試料を短時間で作成できるようにすること。【解決手段】 試料加工面SAに入射するガスイオンビームIBを横断し且つ前記試料加工面SAに接近して配置され、前記ガスイオンビームIBの一部を遮断して前記試料加工面SAにガスイオンビームIBが照射されない1か所のビーム非照射領域SA1を形成する線状のビーム遮断部材22と、前記試料Sおよび前記ビーム遮断部材22を相対的に移動させて、前記ガスイオンビームIBに垂直な面内で前記試料加工面SA上のビーム非照射領域SA1およびビーム照射領域SA2の境界線を平行移動または回転移動させる試料・ビーム遮断部材相対移動装置とを備えた電子顕微鏡用試料作成装置。

請求項（抜粋）：

下記の要件を備えたことを特徴とする電子顕微鏡用試料作成装置、(Y01)真空装置により内部が真空にされる壁部材により囲まれた試料加工室内の試料作成位置に試料の加工面を保持する試料台、(Y02)イオンビーム発生装置と、前記イオンビーム発生装置で発生したイオンビームを試料加工面の縦方向および横方向の全長のうち短い方の1/2以上の幅の領域を一度にエッチング可能なビーム径にして前記試料加工面に入射させる絞りとを有するイオン照射装置、(Y03)前記試料加工面に入射するイオンビームを横断し且つ前記試料加工面に接近して配置され、前記イオンビームの一部を遮断して前記試料加工面にイオンビームが照射されない1か所のビーム非照射領域を形成するビーム遮断部材、(Y04)前記試料台および前記ビーム遮断部材を相対的に移動させて、前記イオンビームに垂直な面内で前記試料加工面上のビーム非照射領域およびビーム照射領域の境界線を平行移動または回転移動させる試料・ビーム遮断部材相対移動装置。

FI (2件)：

G01N 1/28 F ,  G01N 1/28 G